資本金

80,000,000円

従業員数

128名（2025年8月1日現在）

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少量製造 / 配合・小分・充填 / 高温反応(200 C〜) / ラジカル重合 / 乾燥(常圧、減圧) / 臭素を用いるハロゲン化 / ウルマン反応 / 粗精製分取 / 光学顕微鏡 / 核磁気共鳴分析(NMR) / 示差走査熱量分析(DSC) / 液体クロマトグラフ(LC) / 色差 / 溝呂木・ヘック反応 / 熊田・玉尾・コリューカップリング / 低温反応（低温合成） (-20 C〜) / アシル化 / 微粉砕(1000ミクロン〜10ミクロン） / 示差熱分析(DTA) / ガスクロマトグラフ(GC) / カールフィッシャー水分分析 / 凍結乾燥 / カラム精製 / ジアゾ化反応 / グリニヤール（グリニア反応） / 超微粉砕(10ミクロン以下） / プラズマ質量分析（ICP-MS） / ヨウ素化剤を用いるハロゲン化 / 液体クロマトグラフ-質量分析(LC-MS) / 熱重量分析（TG） / ジアゾカップリング反応 / ジアゾカップリング / 溶解 / 鈴木・宮浦クロスカップリング / サンドマイヤー反応 / ガスクロマトグラフ-質量分析(GC-MS) / 粘度 / 各種ハロゲン化剤を用いるハロゲン化 / 昇華 / 粒度分布 / 懸濁重合 / 抽出分離 / X線回析(XRD) / NCS,NBS,NCI等によるハロゲン化 / 晶析 / イオンクロマトグラフ分析(IC) / アルキル化(メチル化、エチル化)反応 / ゲル浸透クロマトグラフ（GPC）有機溶剤系 / 吸着・イオン交換 / アルドール反応 / 再結晶 / ウィティッヒ反応 / 電位差滴定 / 濾過分離 / 低金属化 / エステル化 / クネーフェナーゲル縮合 / シリル化反応 / ディールス・アルダー反応 / ニトリル化（シアノ化） / フリーデルクラフト反応（フリーデル・クラフツ反応） / 環化反応 / 脱ハロゲン化反応 /

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