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箱型棚式真空乾燥機

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製品の概要

箱型棚式真空乾燥機

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原料を入れたトレイを真空容器内部の棚に静置し、真空下で加熱しながら乾燥します。容器内の棚は、それぞれが温水または蒸気の通る加熱板棚になっています。その伝熱・輻射による間接加熱で乾燥をはやめます。

特徴

  • 真空下での低温乾燥のため、熱に弱い原料や酸化を嫌う原料の乾燥が可能です。
  • 高真空での処理により、製品の含水率をきわめて低く抑えることができます。
  • 粉粒状物だけでなく、液状物から高濃度・高粘度物まで対応します。
  • 静置乾燥のため、振動や摩擦に弱い原料の乾燥が可能です。
  • 超薄型の加熱板棚により、乾燥機は超コンパクト型になっています。
  • 温度コントロールが容易で、温度むらがほとんどありません。
  • 強酸物、金属を嫌う原料も、特殊材料や樹脂ライニングにより処理が可能です。
  • 溶剤の回収が容易です。
       

    • 応用例

    ■用 途
    医薬品、食品、化学工業薬品、電子材料等。

    規格表

    機番

    		 仕込量(L) 乾燥室寸法(mm)

    棚段数(有効)

    トレイ
    枚数

    		 トレイ寸法(mm)

    据付寸法(mm)

    幅

    		 奥行 高 幅 奥行 高 幅 奥行 高
    KSV
    1-1/6    		 45 550 790 700 6 6 450 700 40 900 1,500 1,250
    KSV
    1-1/10    		 75 550 790 1,100 10 10 450 700 40 900 1,500 1,650
    KSV
    2-2/10    		 150 1,050 790 1,100 10 20 450 700 40 1,500 1,500 1,650
    KSV
    2-2/15    		 225 1,050 790 1,600 15 30 450 700 40 1,500 1,500 2,150
    KSV
    3-3/15    		 490 1,400 1,200 1,600 15 45 400 1,100 40 1,900 1,900 2,150
    KSV
    4-4/15    		 650 1,850 1,200 1,600 15 60 400 1,100 40 1,900 1,900 2,150