製品の概要 クリックで拡大します ろ過、ケーキ洗滌、乾燥の各工程を1台の密閉容器内で行います。ろ過部をを下にし、静置の状態で加圧あるいは真空によりろ過をおこないます。ろ過終了後、本体を回転させケーキをほぐしながら真空でジャケットから加熱しながら真空下でジャケ少かちの加熱により乾燥をおこないます。ろ過、ケーキ洗滌、乾燥の一連の工程を密閉の状態で行うため、異物の混入はありません。
特徴 ろ過、ケーキ洗滌、乾燥を1台の機械で行うので、途中のハンドリングがなく、コンタミの心配がありません。 密閉系的ため刺激性、毒性をもつ物質の処理が可能です。 真空下での低温乾燥により、熱に弱い物質、空気酸化を嫌う物質の処理が可能です。 GMP仕様に対応可能。 詳細は規格表をご覧下さい。 ろ過、ケーキ洗滌、乾燥の各工程を1台の密閉容器内で行います。ろ過部をを下にし、静置の状態で加圧あるいは真空によりろ過をおこないます。ろ過終了後、本体を回転させケーキをほぐしながら真空でジャケットから加熱しながら真空下でジャケ少かちの加熱により乾燥をおこないます。ろ過、ケーキ洗滌、乾燥の一連の工程を密閉の状態で行うため、異物の混入はありません。