登録企業情報

川口化学工業(株)

企業 PR

 当社は1936年に写真薬品の製造メーカーとして創業致しました。その後、有機ゴム薬品を主軸とし、ファインケミカル、樹脂、染顔料、医農薬、 環境薬剤などの幅広い分野でヘテロ原子化合物の合成技術力を発揮し、社会に貢献してまいりました。
                        本社事務所、川口工場

 また、現在では成長の著しい電子材料などの機能性化学品分野へも目を向け、「新規技術の創出による新素材の提供」をモットーにたゆまぬ努力を重ねております。 これを基に当社は今日の高度化・多様化するニーズに迅速に応え、更なる社会貢献を目指します。
  

 有機ゴム薬品及びその他の化学薬品の中国・東南アジア市場への販売拠点として2010年に中国現地法人を 設立致しました。

得意分野

医薬中間体、農薬中間体、電子材料、機能性材料等。

技術の特徴

★二硫化炭素、硫化水素の利用技術
★含硫黄化合物の製造・合成技術
★その他の含ヘテロ化合物の製造(カルボジイミド類、チオカルボニル化合物、イソチオシアネート類、ピリミジン類、トリアジン類、メルカプタン類、ピリジン類、アミン類、フェノチアジン類、イミダゾール類、チアゾール類、フェノール類)

研究開発体制

長年培ったヘテロ原子化合物の合成技術力を活かし、高度化する医農薬中間体や電子材料などの高機能性化学品へも焦点を合わせ、研究開発体制を整えております。

  1. ラボ段階からの開発支援
    受託生産事業の特徴は開発型であり、ラボ研究段階から商業生産に至るまで一貫してお客様の開発をサポート致します。
  2. グラムからトンスケールまで対応
    反応装置はラボスケールから10m3まで取り揃え、試作品のスポットの合成から継続生産まであらゆるニーズにお応えします。

開発製品

脱水縮合剤、加水分解防止剤、チオケトン化反応剤
これらは医薬品製造や樹脂製造分野で頻繁に用いられております。

  • 脱水縮合剤:DIC、EDC
  • 加水分解防止剤:DIPC
  • チオカルボニル化反応剤:LSR

その他、ファインケミカル分野で用いられる化合物の製造経験と実績がございます(プロダクトリストをご参照下さい)。
 

設備の特徴

川口工場敷地内に医薬中間体や電子材料中間体など精密化学品の受託生産を目的としたマルチパーパスプラントを複数備え、お客様の様々なニーズに柔軟にお応え致します。
     詳しくは設備詳細をご覧ください(100L〜10m3)。
<新マルチパーパスプラント>
医薬中間体、精密化学品の受託事業拡大を目的としたプラントです。
1.5m3〜10m3のリアクター計7基の他、耐酸型遠心分離機、コニカル乾燥機等を設備しており、弊社最大規模の生産能力を誇っております。

品質管理体制

 当社は1997年にISO−9001を取得し、「お客様の要求を満足する製品を提供する」を品質に関する基本方針として活動しております。

環境対策

 当社は独自の廃水処理システム(化学的処理と生物処理)による廃水の無害化を実施しております。また、排ガスにつきましては各工場備え付けの処理設備以外にも移動可能な簡易型吸収装置を数基備え、臭気対策を徹底しております。
 その他、2006年にISO−14001を取得し、環境関連法令を順守すると共にPRTRをはじめとした情報の開示に取り組んでおります。

<省エネ型低温用自然冷媒冷凍装置>
オゾン層破壊防止を目的とし、環境に優しいアンモニア等の自然冷媒を冷却装置に採用した装置です。

受託製造拠点

川口工場
〒332-0004 埼玉県川口市領家4丁目6番42号
電話 048-222-5171 FAX 048-222-5429

その他 PR

低金属対応可能、低温反応可能。

キーワード登録

医薬中間体、農薬中間体、電子材料関連、機能性樹脂添加剤、ファインケミカル中間体、低金属対応

資本金

6億1000万円(東証第2部上場)

従業員数

約160名

年間売上

約70億円

登録ディレクトリ

少量製造 / 配合・小分・充填 / 常圧蒸留 / 高温反応(200 C〜) / 乾燥(常圧、減圧) / 造粒 / 水素化 / 塩素ガスを用いるハロゲン化 / ウルマン反応 / 粉砕(1mm以上) / 光学顕微鏡 / 示差走査熱量分析(DSC) / 液体クロマトグラフ(LC) / 色差 / 過酸化物による酸化 / 減圧蒸留 / 金属水素化物による還元 / 低温反応(低温合成) (-20 C〜) / 顆粒化 / 臭素を用いるハロゲン化 / アシル化 / 有機リチウム化合物 / 有機硫黄化合物の合成 / 微粉砕(1000ミクロン〜10ミクロン) / プラズマ発光分析(ICP-AES) / 示差熱分析(DTA) / ガスクロマトグラフ(GC) / カールフィッシャー水分分析 / 比重 / 精留 / 高圧反応 / 溶剤回収 / 超微粉砕(10ミクロン以下) / 硫化水素 / マスターバッチ製造・加工 / 比熱測定 / かさ比重 / 低沸点溶剤を使った反応 / 空気、酸素を用いる接触酸化 / ヨウ素化剤を用いるハロゲン化 / 酸クロライドの合成 / ナトリウムアミド / 分級 / 二硫化炭素 / 薄膜蒸留 / 原子吸光光度分析(AAA/FL-AAS) / 可視紫外分光分析(UV-VIS) / 液体クロマトグラフ-質量分析(LC-MS) / ハロゲン化合物による酸化 / 水蒸気蒸留 / 各種包装 / 水素化ナトリウム / 活性汚泥処理 / 鈴木・宮浦クロスカップリング / ペレット化 / 蛍光X線分析(XRF) / フリーエ変換赤外線分光分析(FT-IR) / ガスクロマトグラフ-質量分析(GC-MS) / 粘度 / フレーク / アミノ化反応 / スルホン化反応 / 有機ナトリウム / 有機燐化合物の合成 / 粒度分布 / 抽出分離 / ガス吸収 / 熱分解ガスクロマトグラフ(PGC) / 晶析 / アルキル化(メチル化、エチル化)反応 / イオンクロマトグラフ分析(IC) / 硝酸による酸化 / 有臭反応(悪臭物質を使った反応) / アルドール反応 / 屈折率 / 毒性物質を使った反応 / カップリング反応 / ウィティッヒ反応 / 薄層クロマトグラフ(TLC) / 融点 / エーテル縮合反応 / ゲル濾過クロマトグラフ(GFC) / 再結晶 / エステル化 / オッペンナウアー酸化 / 濾過分離 / 低金属化 / カルボニル化 / カニッツアロ反応 / コルベ・シュミット反応 / ティシェンコ反応 / ニトリル化(シアノ化) / ヒドロキシエチル化 / ヒドロキシメチル化 / ヒドロキシ化 / ビルスマイヤー反応 / フリーデルクラフト反応(フリーデル・クラフツ反応) / ホフマン反応 / ホルミル化 / マイケル付加反応 / メチロール化 / ラセミ化 / 環化反応 / 開環反応 / 脱アルキル化反応 / 脱ハロゲン化反応 / 脱水反応 / 転位反応 / 酸アミド / 塩化ベンジルによるアミンの四級化 /

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