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(株)ジャパン・ケム

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少量製造 / 常圧蒸留 / 高温反応(200 C〜) / ラジカル重合 / 乾燥(常圧、減圧) / 塩素ガスを用いるハロゲン化 / ニトロ化反応 / ウルマン反応 / 粉砕(1mm以上) / 金属ナトリウム、金属カリウム / 過酸化物による酸化 / 減圧蒸留 / 金属水素化物による還元 / 低温反応(低温合成) (-20 C〜) / アニオン重合 / 臭素を用いるハロゲン化 / 有機リチウム化合物 / 不斉合成反応による / 微粉砕(1000ミクロン〜10ミクロン) / ニトロ化合物の還元反応 / 精留 / 接触還元 / カチオン重合 / カラム精製 / フッ素化剤を用いるハロゲン化 / グリニヤール(グリニア反応) / 光学分割による / 超微粉砕(10ミクロン以下) / マスターバッチ製造・加工 / 水添反応 / リビング重合 / ヨウ素化剤を用いるハロゲン化 / 酸クロライドの合成 / 縮合重合 / 高圧水添による還元 / フッ素化合物の合成 / 中低圧水添による還元 / 乳化重合 / アミノ化反応 / スルホン化反応 / 有機燐化合物の合成 / 昇華 / チオニルクロライド、スルフリルクロライド等によるハロゲン化 / 抽出分離 / NCS,NBS,NCI等によるハロゲン化 / クロロスルホン化反応 / 晶析 / アルキル化(メチル化、エチル化)反応 / キラル化合物の合成 / 光学分割 / ウィティッヒ反応 / 吸着・イオン交換 / Na,Liによる還元 / 再結晶 / 濾過分離 / ニトリル化(シアノ化) /

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