登録企業情報

ダイトーケミックス(株)

企業 PR

弊社は合成染料の開発、製造販売会社として創業しました。以降、青焼きコピー用感光剤、写真材料、印刷材料など時代の進展とともに様々な領域へ道を拓き、現在では、半導体デバイス製造に用いられる超微細加工向け感光性材料や医薬品の原料となる医薬品中間体にまでその分野を広げてきております。このような高次元化かつ多様化するニーズに確実・迅速にお応えするべく、より広範なフィールドで独創力と行動力を駆使し、次なる独自の有機合成技術を開発しながら、更に付加価値の高い製品をお届けしてまいります。

得意分野

適用分野:電子材料、イメージング材料、医薬品中間体

技術の特徴

 官能基変換・修飾反応
ハロゲン化、酸クロル化、スルホン化、クロルスルホニル化、ニトロ化、ジアゾ化、アミノ化、ヒドラジン化、酸化、還元、イミデート化、アミジン化、t-ブチル化、ホルミル化、カルボキシル化、シクロプロパン化、エキポシ化、保護/脱保護(ベンジル化)(Boc化)(Z化)
 骨格合成
アシル化、スルホニル化、エステル化、酸アミド化、アルキル化、シアノエチル化、エーテル化、アルケニル化(ウイティッヒ反応、ヘック反応)、アルキニル化(薗頭反応)、各種のクロスカップリング反応、アリル化、鈴木−宮浦カップリング反応 、低温反応、不斉合成:光学分割(異性化晶析)、重合:ラジカル重合、開環重合、乳化重合、懸濁重合

 精製技術

再結晶化精製、結晶形状の変換(結晶多形、粒度分布など)、塩交換

 加工技術

微粒子化

研究開発体制

新製品開発に関しては、マーケットの現状や業界のニーズに対する技術調査に始まり、設備・コスト・安全環境面や関連法規などに配慮した基礎データが作成されます。この基礎データをもとに、少量サンプル合成・小中スケールでの試作生産を経て、実機プラントでの生産検討を進め、生産部門での生産体制を構築するまでが技術開発部門の役割です。ユーザーニーズに迅速に対応するために、そしてユーザーの満足する製品を安定的に供給するために技術開発部では事業分野ごとの開発グループの他に、最先端の関連情報および、市場・顧客情報を収集、開発テーマのニーズ引き出しを担当する部署や、実機プラントでの生産検討を推進するグループを設置しています。

開発製品

新製品開発に関しては、マーケットの現状や業界のニーズに対する技術調査に始まり、設備・コスト・安全環境面や関連法規などに配慮した基礎データが作成されます。この基礎データをもとに、少量サンプル合成・小中スケールでの試作生産を経て、実機プラントでの生産検討を進め、生産部門での生産体制を構築するまでが技術開発部門の役割です。ユーザーニーズに迅速に対応するために、そしてユーザーの満足する製品を安定的に供給するために技術開発部では事業分野ごとの開発グループの他に、最先端の関連情報および、市場・顧客情報を収集、開発テーマのニーズ引き出しを担当する部署や、実機プラントでの生産検討を推進するグループを設置しています。

設備の特徴

 ニトロ化反応

 反応温度

-5〜100℃

 反応設備

〜5L(GLASS)
〜20L(GLASS)
300〜10,000L(SUS,GL反応釜)
 還元反応

 反応温度

-5〜130℃

 反応圧力

大気圧〜1MPa(10atm,オートクレーブ)

 反応設備

〜5L(GLASS)
〜1L(SUS,GLASSオートクレーブ)
〜20L(GLASS)
10L(オートクレーブ)
300〜10,000L(SUS,GL反応釜)
3,000L(オートクレーブ)
 ジアゾ化反応、カップリング反応

 反応温度

-5〜10℃

 反応設備

〜5L(GLASS)
〜20L(GLASS)
300〜10,000L(SUS,GL反応釜)
 酸化反応

 反応温度

-5〜130℃

 反応設備

〜5L(GLASS)
〜20L(GLASS)
300〜10,000L(SUS,GL反応釜)
 スルホン化反応

 反応温度

-5〜130℃

 反応設備

〜5L(GLASS)
〜20L(GLASS)
300〜10,000L(SUS,GL反応釜)
サルファン使用設備1,500L(GL反応釜)
 重合設備
電子材料用アクリル系樹脂の合成技術でった溶液系での重合技術をもとに、乳化重合、懸濁重合などの重合技術を利用して、種々の材料開発を行っております。

 反応温度

-5〜130℃

 反応設備

〜5L(GLASS)
〜50L(GLASS)
300〜6,000L(SUS,GL反応釜)
 分散技術
写真材料で培った分散技術を発展させ、種々のナノテクノロジー技術への展開を図っております。

 分散機(実験機)

UVM320ml、サンドグラインダー2基

 分散機(実機)

UVM7基、LMK1基
 ヘテロ環合成技術
写真材料、医薬品中間体に有用な各種ヘテロ環合成技術を確立し、多くの商品を開発しております。

 反応温度

-5〜130℃

 反応設備

〜5L(GLASS)
〜20L(GLASS)
300〜10,000L(SUS,GL反応釜)

品質管理体制

平成9年に大阪工場でISO9002の認証を取得しました。平成15年には全社的にISO9001(2000年版)へ移行しております。QA・RC部が全社的な品質保証活動に関する方針と計画を立案し、管理を行っております。また、各工場の品質保証部門は製品、原料および中間体の検査・試験を行い、品質異常が発生した場合は原因把握と処理・対策ならびに技術的な支援を行います。

分析機器
ICP-MS、ICP-AES、原子吸光、NMR(300,400メガヘルツ)、LC-MS、GC-MS、DSC、TG/DTA、UV-VIS、FT-IR、イオンクロマト、GPC、HPLC、GC、TLCスキャナー、動的光散乱式粒径分布測定装置、レーザ回折/散乱式粒度分布測定装置、カラーメーター、E型粘度計、B型粘度計、レーザー顕微鏡、溶解速度測定装置(DR)

環境対策

弊社は「大阪工場廃水プラント」の開発を皮切りに、いち早くこのテーマに取り組んできました。昭和49年には環境対応の重要性を先取りし設立したグループ会社の「日本エコロジー蝓廚箸箸發法廃棄物処理にとどまらず一度使用した溶剤のリサイクル利用についても成果を上げております。
平成11年には大阪工場でISO14001の認証を取得し、その後各工場・本社部門の認証も得ております。QA・RC部が全社的な環境対策に対する主幹部署として活動を推進しております。

受託製造拠点

大阪工場 大阪府大東市諸福8丁目3番11号  
 筺06-6911-1271
静岡工場 静岡県掛川市浜野3110      
 筺0537-72-2888
福井工場 福井県福井市石橋町31字118    
 筺0776-85-1841
 *弊社関係会社での受託可否につきましても、ご相談に応じます。

事業に関わる人員

弊社では、約80名の研究開発スタッフを擁しており、受託事業には20〜25名の人員を確保しております。

資本金

2,901,163,150円

従業員数

190名(平成29年6月現在)

年間売上

単独:10,311百万円(平成293月期)
連結:
11,905百万円(同上)

会社案内

主要製品情報

技術・研究開発情報

装置・設備情報

その他

登録ディレクトリ

少量製造 / 配合・小分・充填 / 重金属化合物による酸化 / ラジカル重合 / 乾燥(常圧、減圧) / 造粒 / 水素化 / ニトロ化反応 / ウルマン反応 / 粉砕(1mm以上) / 化学試薬・医薬中間体の合成 / 粗精製分取 / 光学顕微鏡 / 核磁気共鳴分析(NMR) / 示差走査熱量分析(DSC) / 液体クロマトグラフ(LC) / 全有機炭素分析(TOC) / 色差 / アジド化反応 / 溝呂木・ヘック反応 / 熊田・玉尾・コリューカップリング / 過酸化物による酸化 / 金属水素化物による還元 / 低温反応(低温合成) (-20 C〜) / アニオン重合 / 乳化 / 臭素を用いるハロゲン化 / アシル化 / 有機硫黄化合物の合成 / クロマトグラフィー / 微粉砕(1000ミクロン〜10ミクロン) / プラズマ発光分析(ICP-AES) / 示差熱分析(DTA) / ガスクロマトグラフ(GC) / カールフィッシャー水分分析 / 比重 / ニトロ化合物の還元反応 / 根岸クロスカップリング / グレーサー反応 / 接触還元 / カラム精製 / ジアゾ化反応 / グリニヤール(グリニア反応) / 光学分割による / 分散 / マスターバッチ製造・加工 / プラズマ質量分析(ICP-MS) / かさ比重 / ヘッドスペースガスクロマトグラフ(HS/GC) / 有機珪素化合物の合成 / アセタール化反応 / 右田・小杉・スティル クロスカップリング / 水添反応 / ヨウ素化剤を用いるハロゲン化 / 酸クロライドの合成 / アセチレン反応 / 原子吸光光度分析(AAA/FL-AAS) / 可視紫外分光分析(UV-VIS) / 液体クロマトグラフ-質量分析(LC-MS) / 乾燥容量 / 熱重量分析(TG) / 調液 / ジアゾカップリング反応 / ジアゾカップリング / 薗頭・萩原クロスカップリング / 縮合重合 / ハロゲン化合物による酸化 / 各種包装 / フッ素化合物の合成 / 水素化ナトリウム / 鈴木・宮浦クロスカップリング / サンドマイヤー反応 / フリーエ変換赤外線分光分析(FT-IR) / ガスクロマトグラフ-質量分析(GC-MS) / 粘度 / アミジン化反応 / 脱水素反応 / 中低圧水添による還元 / 乳化重合 / アミノ化反応 / スルホン化反応 / 有機ナトリウム / 有機燐化合物の合成 / 粒度分布 / チオニルクロライド、スルフリルクロライド等によるハロゲン化 / バックワルド・ハートウィグ クロスカップリング / 懸濁重合 / 抽出分離 / その他の有機金属 / NCS,NBS,NCI等によるハロゲン化 / クロロスルホン化反応 / アリル化反応 / 溶液重合 / 晶析 / アルキル化(メチル化、エチル化)反応 / イオンクロマトグラフ分析(IC) / 旋光度 / スルホンアミド化反応 / キラル化合物の合成 / 硝酸による酸化 / 光学分割 / アルドール反応 / ゲル浸透クロマトグラフ(GPC)有機溶剤系 / ニトロソ化 / カップリング反応 / ウィティッヒ反応 / ウォルフキシュナー還元(反応) / 吸着・イオン交換 / 薄層クロマトグラフ(TLC) / 融点 / Na,Liによる還元 / エーテル縮合反応 / 再結晶 / エステル化 / オッペンナウアー酸化 / 電位差滴定 / エポキシ化反応 / 濾過分離 / 低金属化 / オキシム化反応 / カニッツアロ反応 / グアニジン化反応 / クネーフェナーゲル縮合 / コルベ・シュミット反応 / シリル化反応 / シーマン反応 / ディールス・アルダー反応 / ティシェンコ反応 / ニトリル化(シアノ化) / ヒドロキシエチル化 / ヒドロキシメチル化 / ヒドロキシ化 / ビルスマイヤー反応 / フリース転位反応 / フリーデルクラフト反応(フリーデル・クラフツ反応) / ホフマン反応 / ホルミル化 / マイケル付加反応 / メチロール化 / ラセミ化 / 環化反応 / 開環反応 / 脱アルキル化反応 / 脱ハロゲン化反応 / 脱水反応 / 転位反応 / 酸アミド / 脱炭酸 /

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