登録企業情報

スガイ化学工業(株)

企業 PR

有機合成技術そのものを事業経営の基盤とし「新しい技術開発のパワーこそ、企業発展の道である」ことをテーマに掲げ、事業を展開しています。

創造的で新しい技術の開発にあたっては、常に未来を見据えて、人として品性豊かな仕事をし、当社の存在価値を高め、社会に貢献することを経営の基本としています。

得意分野

医薬中間物、農薬原体・中間物、染顔料中間物、界面活性剤、機能性関連の中間物の製造及び販売

技術の特徴

独自の有機合成技術を結集し最適のプロセスを提案

カスタムマニュファクチャーとしての豊富な実績と経験を通じて、当社では酸化、還元、グリニヤール反応、各種ハロゲン化、シアノ化反応など、中間物メーカーとしては国内トップレベルの多彩な反応技術を蓄積しています。
特に医薬中間体については研究開発から試作及び工業生産段階まで一貫システムを構築することにより、GMPに対応した信頼性の高い開発・生産を実現しています。
こうした幅広い有機合成技術の結集が、多様かつ高度なニーズに対応した製品の効率的開発を可能にしています。

アシル化 / Acylation アルキル化 / Alkylation
アミノ化 / Amination アリル化 / Arylation
ブロム化 / Bromination カルボキシル化 / Carboxylation
クロル化 / Chlorination 縮 合 / Condensation
カップリング / Coupling シアノ化 / Cyanation
エステル化 / Esterification フッ素化 / Fluorination
ホルミル化 / Formylation ヒドロキシル化 / Hydroxylation
(メタ)アクリレート化 / (Meta)acrylation ニトロ化 / Nitration
酸 化 / Oxidation 光学分割 / Optical Resolution
還 元 / Reduction 環 化 / Ring formation
スルホン化・クロルスルホン化 / Sulfonation and Chlorosulfonation

研究開発体制

和歌山と福井の2研究所体制下、25名のスタッフで対応しています。
ラボによるプロセス検討から福井パイロットプラントによる試作まで的確、柔軟、迅速に対応できる体制を整えています。

開発製品

デカリン誘導体

高耐熱性・透明性材料として2-DHA( アクリレー ト)、2-DHM(メタクリレート)、27-DGDHN(グリシジルエーテル)を開発しました。これらのデカリン誘導体は光学電子用途での使用が期待されています。 デカリン誘導体

 

 

 

 

 

テトラロン

当社の還元技術を生かして、さまざまなテトラロン誘導体を提供する事が可能です。これら誘導体は医薬中間物として種々の引き合いを受けています。 テトラロン

 

 

 

カリックスアレーン

カリックスアレーンはスルホン基を有したSシリーズ(n=4,6,8)とt-ブチル基を有したBシリーズ(n=4,6,8)を取り揃えています。また瞬間接着剤用途などに使用されているCALX-B4EAも提供できます。これからも当社は様々な タイプのカリックスアレーンの開発に挑戦していきます。 カリックスアレーン

設備の特徴

和歌山事業所、福井事業所を製造拠点とし、製造設備はマルチパーパス(多目的)設備となっています。

更に福井にパイロットプラントを有し、数kgの試作からトンベースの工業生産まで対応致しております。

福井工場
     
反応機(ハステロイ) 200L 福井 のパイロットプラントは医薬・農薬中間体、機能性化学品を中心にkgスケールの試作工場として活躍しています。幅20m、長さ15m、高さ15mの3階建てで、プラント設備の他に実験室設備も併設しています。

品質管理体制

ISO9001認証 : 本社、大阪営業所、東京営業所
(JCQA-0304)  和歌山事業所、福井事業所
F D A 査 察 : 福井事業所

環境対策

活性汚泥による処理を行っています。

受託製造拠点

福井事業所  福井市石橋町29-75-1
Phone 0776-85-1150
F a x 0776-85-1101
和歌山事業所 和歌山市湊1280
Phone 073-423-6341
F a x 073-423-6345

資本金

25億1,000万円

従業員数

177名(平成29年3月31日現在)

年間売上

5,021百万円(平成28年度実績)

主要製品情報

装置・設備情報

その他

登録ディレクトリ

少量製造 / 重金属化合物による酸化 / 常圧蒸留 / 高温反応(200 C〜) / ラジカル重合 / 乾燥(常圧、減圧) / 塩素ガスを用いるハロゲン化 / ニトロ化反応 / ウルマン反応 / 金属ナトリウム、金属カリウム / 青酸、青酸ソーダ、青酸カリウム / 溝呂木・ヘック反応 / 過酸化物による酸化 / 減圧蒸留 / 金属水素化物による還元 / 臭素を用いるハロゲン化 / アシル化 / 有機リチウム化合物 / ニトロ化合物の還元反応 / 根岸クロスカップリング / 精留 / 接触還元 / カラム精製 / フッ素化剤を用いるハロゲン化 / ジアゾ化反応 / グリニヤール(グリニア反応) / 光学分割による / スプレードライ(噴霧乾燥) / 水添反応 / 空気、酸素を用いる接触酸化 / ヨウ素化剤を用いるハロゲン化 / 酸クロライドの合成 / ナトリウムアミド / 薄膜蒸留 / ジアゾカップリング反応 / ジアゾカップリング / 薗頭・萩原クロスカップリング / 縮合重合 / ハロゲン化合物による酸化 / 水蒸気蒸留 / フッ素化合物の合成 / 水素化ナトリウム / 鈴木・宮浦クロスカップリング / サンドマイヤー反応 / 脱水素反応 / 中低圧水添による還元 / 分子蒸留 / フレーク / アミノ化反応 / スルホン化反応 / 有機ナトリウム / 有機燐化合物の合成 / 抽出分離 / クロロスルホン化反応 / 溶液重合 / 晶析 / アルキル化(メチル化、エチル化)反応 / スルホンアミド化反応 / 硝酸による酸化 / バーチ還元 / 光学分割 / アルドール反応 / ニトロソ化 / 毒性物質を使った反応 / カップリング反応 / ウィティッヒ反応 / ウォルフキシュナー還元(反応) / Na,Liによる還元 / エーテル縮合反応 / 再結晶 / エステル化 / エポキシ化反応 / 濾過分離 / 低金属化 / カルボニル化 / コルベ・シュミット反応 / ディールス・アルダー反応 / ニトリル化(シアノ化) / ヒドロキシ化 / ビルスマイヤー反応 / フリース転位反応 / フリーデルクラフト反応(フリーデル・クラフツ反応) / ホフマン反応 / ホルミル化 / マイケル付加反応 / マンニッヒ反応 / 環化反応 / 開環反応 / 脱アルキル化反応 / 脱ハロゲン化反応 / 脱水反応 / 転位反応 / 酸アミド / 脱水素 / 脱炭酸 / 塩化ベンジルによるアミンの四級化 /

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