登録企業情報

(株)ケミカルソフト開発研究所                          ケミカルソフト(株)

企業 PR


創業以来、有機合成技術を柱とした研究開発型企業として、試薬、医薬品、工業薬品等の広範な分野において、研究開発から製造に至る幅広いステージで高度な技術を培い数多くの合成を手掛けて参りました。特に超高集積回路向け半導体用ArFレジスト材モノマーおよび同基幹原料である酸クロライドにおいては、独自の安価な製造方法を開発し高い評価を得ております。近年は、産学連携事業への参画等を通して、有機合成技術を活かした新規発展分野への展開にも取り組んでおります。
当社の基本は「信用経営」です。日々の活動においては、「お客様の多様なご要望に、柔軟かつ真摯に対応させて戴く。」をモットーに、顧客第一主義を貫いております。科学技術が日々進化する現代において、高度化する種々のニーズに対応できますよう一層の技術向上に努め、「高品質」、「低コスト」、「スピード」を合言葉に、社員一丸となって邁進致すことをお約束申し上げます。
 

得意分野

特注合成(数mg〜数10kg)
合成に関わる受託研究
酸クロライドの合成およびエステル化反応、またそれらを利用したArFレジストモノマーの受託合成
アルキルリチウムのバルク合成
第3級アルコールエステルの合成
有機リチウム試薬を用いた反応
金属水素(NaH、LiAlH4、etc.)を用いた反応
鈴木カップリング
二重結合のエポキシ化(DMDOを用いたエポキシ化)
中性条件下での還元
中性条件下での酸ハライド類合成
安定同位体含有化合物(D、13C、etc.)の特注合成
その他

技術の特徴


★得意な技術 
ハロゲン化(臭素化、塩素化)/エステル化/エーテル化/還元反応(金属水素化物)/反応重合(ラジカル重合)/悪臭物質を使った反応/有機金属を用いる反応(有機リチウム、グリニヤール)/低温反応/光学活性化合物(不斉合成,光学分割)/晶析

●可能な技術
ニトロ化/スルホン化/ハロゲン化(フッ素化、その他)/脱ハロゲン反応/アミノ化/ヒドロキシ化/カルボニル化/ジアゾ化/シアノ化・シアンヒドリン化/アルキル化/脱アルキル化/カップリンク・縮合反応/酸化反応(重金属化合物、過酸化物による反応、液相、触媒酸化)/フリーデルクラフツ反応・ルイス酸触媒/還元反応(バーチ還元、Na−Liによる還元、化学還元)/光反応/反応重合(乳化重合)/ポリペプチド・オリゴメリゼーション/高分子反応/爆発性危険物の取扱/刺激性化合物の取扱/有機金属を用いる反応(有機ケイ素化合物、その他)/低温反応(極低温反応)/光学活性化合物(酸素反応・醗酵法、クロマト分離)/発酵・酵素反応/官能基保護/蒸留(常圧蒸留、減圧蒸留、抽出蒸留、水蒸気蒸留、分子蒸留)/濾過/クロマト分離精製技術

開発製品


次々世代コンピュータに用いられる半導体(4Gビットメモリ)用レジスト材料として注目されているアダマンチル及びメバロニック誘導体の効率的合成技術を開発致しました。

立体障害の大きい第3級アルコールエステルの合成法を開発しました。

設備の特徴


開発から量産まで:ミリ(mg)からトン(ton)スケールに対応できる装置を有しており、受託合成では新規(化合物)合成法探索を含む実験室レベルの少量からスタートして数十キロ規模へのスケールアップ合成を経て継続生産に対応可能です。

環境対策


廃  水:中和、バッキ及び外部処理
廃棄物:外部委託

受託製造拠点


三重工場

518-0227 三重県名賀郡青山町羽根字下後瀬193番地
TEL:0595-52-1418 FAX:0595-52-0884

その他 PR


化学が地球を救う 
          
      
今、地球は、環境問題をはじめ重大な問題を抱えています。
しかし、 私たちは「化学が地球を救う」と信じています。
化学分野での新しい開発が情報産業やライフサイエンスの発展の一翼を担い、ひいては次世代の国民生活に貢献していくものと考えます。
化学の世界は、まさに無限の可能性を秘めています。
だからこそ、私たちの行う、化学の研究開発で広がる夢もまた無限なのです。

キーワード登録

半導体フォトレジスト材 フォトレジスト材 ArF フッ素アルゴン モノマー共重合体 メバロニックラクトン 酸塩化合物合成 ペプチド合成 レジストモノマーの合成 ヘテロ化合物類 ArF用 カルボン酸クロリド スルホン酸クロリジ アルキルリチウム メバロニック誘導体 アダマンチル 第3級アルコールエステルの合成法 13C 安定同位体含有化合物 重水素化合物 光学活性化合物 安定同位体化合物 有機化合物 電子材料 有機リチウム試薬

資本金

1000万円

従業員数

17 名

年間売上

180 百万円(平成12年実績)

主要製品情報

技術・研究開発情報

装置・設備情報

登録ディレクトリ

少量製造 / 常圧蒸留 / ラジカル重合 / 塩素ガスを用いるハロゲン化 / ニトロ化反応 / 酵素反応による / 過酸化物による酸化 / 減圧蒸留 / 金属水素化物による還元 / 低温反応(低温合成) (-20 C〜) / 臭素を用いるハロゲン化 / 有機リチウム化合物 / 不斉合成反応による / クロマトグラフィー / カラム精製 / フッ素化剤を用いるハロゲン化 / ジアゾ化反応 / グリニヤール(グリニア反応) / 光学分割による / 酸クロライドの合成 / 発酵 / 水素化ナトリウム / 乳化重合 / 分子蒸留 / スルホン化反応 / 抽出分離 / その他の有機金属 / 晶析 / その他のハロゲン化反応 / アルキル化(メチル化、エチル化)反応 / バーチ還元 / 有臭反応(悪臭物質を使った反応) / 光学分割 / カップリング反応 / Na,Liによる還元 / エーテル縮合反応 / 再結晶 / エステル化 / 濾過分離 / カルボニル化 / ニトリル化(シアノ化) / ヒドロキシ化 / ビルスマイヤー反応 / フリーデルクラフト反応(フリーデル・クラフツ反応) / 脱アルキル化反応 / 脱ハロゲン化反応 / 転位反応 / 酸アミド /

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