医薬中間体・原体・原薬から電子材料まで
幅広い分野で利用されている検索システム


(株)伏見製薬所

企業 PR

■経験豊富な有機合成分野の研究員が、文献調査・合成ルート立案から対応致します。

■当社は有機合成事業を1980年代から開始しており、30年以上の歴史のなかで培った様々な技術を有しています。(→「得意とする合成技術」参照)

■スケールアップ検討・プラントでの製造計画まで一貫して対応するため、お客様のご要望を綿密に反映し、短納期での製造が可能です。

■クリーンルームを有しており、GMP管理下での原薬および医薬中間体の製造に対応できます。

■最新の分析機器(NMR、GC-MS、LC-MS、ICP等)を用いた、高度な分析が可能です。

 

得意分野

アジ化ナトリウム、二硫化炭素をベースとした合成反応を得意としており、各種アジ化物、ヘテロ環化合物等、含窒素、含硫黄化合物の合成に対応します。
塩素、過酸化水素の専用設備を持ち、塩素化、スルホン化、エポキシ化等の各種合成に対応しています。
数10基のGL反応器をはじめ、多数の装置を備えたマルチプラントを活用して、多様なニーズに対応できます。
医薬、電子材料の中間体、酸クロライド、テトラゾール類、ジアゾール類、アゾール類、有機硫黄化合物の受託合成実績があります。

技術の特徴

構造式 化合物情報 CAS No.

 名称
 ジフェニルホスホリルアジド

 略称
 DPPA

 M.W
 275.19
 

26386-88-9

 名称
 4-アセトアミドベンゼンスル
 フォニルアジド

 略称
 ABSA

 M.W
 204.24
 

2158-14-7

 名称
 トリメチルシリルアジド

 略称
 TMSA

 M.W
 115.21

 

4648-54-8
 名称
 各種 2-メルカプトベンゾオ
 キサゾール
 
 名称
 各種 2-メルカプトベンゾチ
 アゾール
 

 名称
 m-フルオロイソチオシア
 ネート

 略称
 MFIT

 M.W
 153
 

 

研究開発体制

市場調査、製品開発にも注力し、合成研究から一貫したプメジェクトによる共同研究も行います。

開発製品

殺菌保存剤、食品保存料の安息香酸・安息香酸ナトリウムは、 世界で最も広く使用されています。
Comprecel はパルプを酸で加水分解・精製した、高純度の結晶セルロースです。
クロスカルメロースナトリウムはカルボキシメチルセルロースナトリウムを内部架橋させた物質です。 (架橋剤は使用しておりません。)
吸水・吸油・洗浄・塗布・液切りに優れたウレタン/オレフィンスポンジロールです。
クリーンな拭き取り、吸液スポンジです。 スティック状、シート状、ヒゴ状のものをご提供しております。
柔軟性・高吸液能・無自己発塵性を特色とするスポンジブロックです。幅広い用途にご使用いただけます。
アジ化ナトリウム、二硫化炭素をベースとした合成反応を得意とし、さらにハロゲン化、スルホン化、エポキシ化等の各種合成にも対応しています。
肌の中から美容成分を増やす。
 ラビトル 高機能ハロゲンフリー難燃剤のラビトルシリーズは、高リン含有量、 高耐熱性、高耐加水分解性が特長で、樹脂類の特殊難燃剤としてご使用いただけます。
シアリルグリコペプチド(SGP) 卵黄から高品質SGPの生産に成功。バイオ医薬の糖鎖原料、研究用試薬等さまざまな分野に活用できます。
お花の給水材です。 花の鮮度を高める栄養素や、微生物から守る抗菌剤を含んだ水をゼリー状に固めたもので、その 99%が水でできています。

設備の特徴

グラムスケールからトンスケールまでの様々な反応に対応します。
弊社は、50L〜10,000Lと幅広い容量の反応釜を所有しており、多くの反応釜にフルゾーン®撹拌翼
*を採用していることから、効率的にスケールアップを行うことができます。

 OS-4L [マルチプラント]
反応槽 関連設備
 500L GL×2基*(内1基は一圧対応)  遠心分離機
 300L GL×1基*  GL濾過器
 500L SUS×2基  GL濾過乾燥機
 一圧 500L GL×1基*  棚段乾燥機
 500L GL×1基* コニカル乾燥機 GL
1000L SUS×1基  
1000L GL×1基*  
1000L GL×1基*(クリーンルーム内)  
 OS-2 [マルチプラント]
数十キロ〜数百キロの製造に適したプラントです。また、有臭反応に対応し、除外設備が充実しています。DMSO酸化やZn還元反応も対応可能です。
反応槽 関連設備
 6.0㎥GL×1基*  遠心分離機×2基
 3.0㎥GL×1基*  GL濾過器×2基
 2.0㎥GL×2基*  GL濾過器×1基(クリーンルーム内)
 2.0㎥GL×2基  棚段式減圧乾燥機×1基(クリーンルーム内)
 1.0㎥GL×2基*  
 500L GL×1基*  
 500L GL×1基  
 300L GL×1基*  
 OS-3 [GMP対応マルチプラント]
トンスケールの製造を目的としたプラントです。晶析〜分離〜乾燥〜充填(クリーンルーム)まで一貫ラインとし、GMPにも対応可能です。
反応槽 関連設備
 10.0㎥GL×2基*  遠心分離機
 6.0㎥GL×2基*  加圧濾過器
 4.7㎥GL×1基  ナウター乾燥機 3.0㎥SUS
 サービスタンク複数  振動乾燥機

*印はすべてフルゾーン®撹拌翼です
*フルゾーン®は(株)神鋼環境ソリューションの登録商標・登録特許です。 http://www.kobelco-eco.co.jp/

品質管理体制

当社の分析開発部門は

 
LCMS、GCMS、FT-NMR 、ICP等の各種分析機器を駆使し、高度な分析・解析を行います。
新しい分析技術の確立を通じて、研究開発をサポートしています。

キーワード登録

アジド化 テトラゾール 塩素化 パイロット

企業情報