■当社は有機合成事業を1980年代から開始しており、30年以上の歴史のなかで培った様々な技術を有しています。(→「得意とする合成技術」参照)
■スケールアップ検討・プラントでの製造計画まで一貫して対応するため、お客様のご要望を綿密に反映し、短納期での製造が可能です。
■クリーンルームを有しており、GMP管理下での原薬および医薬中間体の製造に対応できます。
■最新の分析機器(NMR、GC-MS、LC-MS、ICP等)を用いた、高度な分析が可能です。
1億円
239人
103億円
少量製造 / 乾燥(常圧、減圧) / アジド化反応 / 過酸化物による酸化 / 金属水素化物による還元 / 塩素ガスを用いるハロゲン化 / 有機硫黄化合物の合成 / 接触還元 / グリニヤール(グリニア反応) / 水添反応 / 酸クロライドの合成 / 二硫化炭素 / 各種ハロゲン化剤を用いるハロゲン化 / 医薬品・医薬部外品・化粧品の製造 / チオニルクロライド、スルフリルクロライド等によるハロゲン化 / NCS,NBS,NCI等によるハロゲン化 / 有臭反応(悪臭物質を使った反応) / エポキシ化反応 / フリーデルクラフト反応(フリーデル・クラフツ反応) / 環化反応 / 脱水反応 / 転位反応 /
■当社は有機合成事業を1980年代から開始しており、30年以上の歴史のなかで培った様々な技術を有しています。(→「得意とする合成技術」参照)
■スケールアップ検討・プラントでの製造計画まで一貫して対応するため、お客様のご要望を綿密に反映し、短納期での製造が可能です。
■クリーンルームを有しており、GMP管理下での原薬および医薬中間体の製造に対応できます。
■最新の分析機器(NMR、GC-MS、LC-MS、ICP等)を用いた、高度な分析が可能です。
■ | アジ化ナトリウム、二硫化炭素をベースとした合成反応を得意としており、各種アジ化物、ヘテロ環化合物等、含窒素、含硫黄化合物の合成に対応します。 |
■ | 塩素、過酸化水素の専用設備を持ち、塩素化、スルホン化、エポキシ化等の各種合成に対応しています。 |
■ | 数10基のGL反応器をはじめ、多数の装置を備えたマルチプラントを活用して、多様なニーズに対応できます。 |
■ | 医薬、電子材料の中間体、酸クロライド、テトラゾール類、ジアゾール類、アゾール類、有機硫黄化合物の受託合成実績があります。 |
構造式 | 化合物情報 | CAS No. |
名称 ジフェニルホスホリルアジド 略称 M.W |
26386-88-9 | |
名称 4-アセトアミドベンゼンスル フォニルアジド 略称 M.W |
2158-14-7 | |
名称 トリメチルシリルアジド 略称 M.W
|
4648-54-8 | |
名称 各種 2-メルカプトベンゾオ キサゾール |
||
名称 各種 2-メルカプトベンゾチ アゾール |
||
名称 m-フルオロイソチオシア ネート 略称 M.W |
市場調査、製品開発にも注力し、合成研究から一貫したプメジェクトによる共同研究も行います。
グラムスケールからトンスケールまでの様々な反応に対応します。
弊社は、50L〜10,000Lと幅広い容量の反応釜を所有しており、多くの反応釜にフルゾーン®撹拌翼*を採用していることから、効率的にスケールアップを行うことができます。
OS-4L [マルチプラント] | |
反応槽 | 関連設備 |
500L GL×2基*(内1基は一圧対応) | 遠心分離機 |
300L GL×1基* | GL濾過器 |
500L SUS×2基 | GL濾過乾燥機 |
一圧 500L GL×1基* | 棚段乾燥機 |
500L GL×1基* | コニカル乾燥機 GL |
1000L SUS×1基 | |
1000L GL×1基* | |
1000L GL×1基*(クリーンルーム内) |
OS-2 [マルチプラント] | |
数十キロ〜数百キロの製造に適したプラントです。また、有臭反応に対応し、除外設備が充実しています。DMSO酸化やZn還元反応も対応可能です。 | |
反応槽 | 関連設備 |
6.0㎥GL×1基* | 遠心分離機×2基 |
3.0㎥GL×1基* | GL濾過器×2基 |
2.0㎥GL×2基* | GL濾過器×1基(クリーンルーム内) |
2.0㎥GL×2基 | 棚段式減圧乾燥機×1基(クリーンルーム内) |
1.0㎥GL×2基* | |
500L GL×1基* | |
500L GL×1基 | |
300L GL×1基* |
OS-3 [GMP対応マルチプラント] | |
トンスケールの製造を目的としたプラントです。晶析〜分離〜乾燥〜充填(クリーンルーム)まで一貫ラインとし、GMPにも対応可能です。 | |
反応槽 | 関連設備 |
10.0㎥GL×2基* | 遠心分離機 |
6.0㎥GL×2基* | 加圧濾過器 |
4.7㎥GL×1基 | ナウター乾燥機 3.0㎥SUS |
サービスタンク複数 | 振動乾燥機 |
*印はすべてフルゾーン®撹拌翼です
*フルゾーン®は(株)神鋼環境ソリューションの登録商標・登録特許です。
http://www.kobelco-eco.co.jp/
当社の分析開発部門は | ||
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LCMS、GCMS、FT-NMR 、ICP等の各種分析機器を駆使し、高度な分析・解析を行います。 | |
■ | 新しい分析技術の確立を通じて、研究開発をサポートしています。 |